2013年04月10日08:52 來源:人民網-財經頻道
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“nano tech 2013”展會還大量展示了作為產品節(jié)能王牌而受到關注的功率半導體元件(以下稱功率元件)用新部材。比如具備高導熱率的散熱材料、制造采用SiC和GaN的功率元件不可或缺的基板材料(圖9)。
圖9:展示功率元件用部材 TASC展示了導熱率高達450~850W/mK的散熱基板(a)。電裝等展示了口徑達到6英寸的SiC基板(b)。大阪大學等介紹了聚集以“鈉溶劑法”制作的小型GaN結晶形成基板的制造技術(c)。 |
散熱材料方面,技術研究聯(lián)盟單層CNT融合新材料研究開發(fā)機構(TASC)展出了導熱率為450~850W/mK的新材料。據(jù)稱,該材料的導熱率最大約為鋁的4倍、銅的2倍。在會場上,TASC展示了采用該材料的散熱板試制品。例如,用于燃料電池系統(tǒng)用IGBT和電動摩托車用DC-DC轉換器的散熱板。
此次展示的散熱材料合成了碳納米管(CNT)和鋁。TASC沒有公開詳細的制作方法,只表示在將鋁加熱到熔點以下的狀態(tài)下,使CNT進行了固相擴散。據(jù)稱現(xiàn)階段可制作直徑350mm的復合材料。
TASC利用“超速成長法”和“eDIPS法”形成了CNT。利用超速成長法可獲得具有高配向性的單層長CNT,適合大量生產。而eDIPS法適合制作結晶性、品質及純度高的CNT。
高品質6英寸SiC基板
SiC基板方面,電裝、豐田中央研究所和昭和電工展出了技術研究聯(lián)盟——新一代功率電子研究開發(fā)機構(FUPET)正在開發(fā)的6英寸(150mm)口徑試制品。該基板的最大特點是位錯密度僅為每平方厘米數(shù)千個。利用以“RAF生長法”制作的母材、即籽晶為削減位錯密度做出了巨大貢獻。三家公司計劃2014年度底之前投產6英寸基板。
GaN基板方面展出了號稱“無位錯”的試制品。那就是大阪大學與Innovation Center和理光利用“鈉溶劑法”制作的2英寸(50mm)口徑GaN基板。鈉溶劑法在鎵和鈉的混合溶液中噴入氮氣使氮溶解來制作GaN結晶。該方法是液相法的一種,因此可大幅抑制位錯等結晶缺陷。但難以制作大口徑基板。因此,此次開發(fā)出了大量結合用鈉溶劑法制作的小型GaN結晶的方法。比此前提案的任何一種方法都更容易制作2英寸的無位錯GaN基板。(日經技術在線! 供稿)